上海微电子推出28nm光刻机新技术提升半导体制造效率

新一代光刻机采用了先进的双层透镜设计，这种设计能够更精确地控制光线的聚焦，从而提高制片过程中的精度和效率。

该公司在传统的极紫外光（EUV）技术基础上进行了重大升级，使得其28nm工艺节点的生产成本大幅降低，同时也缩短了产品从研发到市场的时间。

光刻机内置了一套高性能的人工智能系统，可以实时监控设备运行状态并对异常情况进行预警及自动调整，确保生产稳定性和可靠性。

上海微电子还宣布将与多家全球领先的半导体企业合作，将其最新成果应用于5G通信、人工智能、大数据存储等领域，以满足未来科技发展需求。

公司表示，该项技术不仅为国内外客户提供了更加灵活和经济高效的手段，也为中国乃至全球半导体产业发展注入新的活力，为实现“芯片自立自强”目标做出了积极贡献。