中国芯片制造水平现状ASML首台2nm高数值孔径极紫外光刻机交付

在12月25日，全球半导体行业迎来了一个里程碑式的消息。荷兰公司ASML宣布，将其首台2纳米（nm）高数值孔径极紫外光刻机正式交付给美国科技巨头英特尔。这台新型光刻机不仅是目前技术最先进的，也是研发时间最长的，历时10年。

这款价值超过3亿美元的大型设备拥有一个卡车车箱大小，是目前市场上最大的单一光学系统。它将为英特尔提供更精细化和高效率的制程能力，使得英特尔成为全球第一家掌握这一技术的企业。据悉，这台设备预计将于2026年或2027年开始用于商业芯片生产。

除了英特尔，韩国三星也获得了ASML 2nm新型高数值孔径极紫外光刻机的优先供应权，因此三星也将很快接收到这款设备，并成为第二个拥有一定量产能力的厂商。此举标志着两家公司都有望进入下一代芯片制造领域，为他们带来更加强大的竞争力。

然而，对于中国来说，这项技术仍然不可触及。这对中国国内自主研发和发展相关关键技术具有重要意义，因为它们对于提升本国产业链、降低依赖性至关重要。如果没有这些关键工具，中国需要继续寻求其他途径来推动自身半导体产业发展，如加大研发投入、引进人才等战略措施，以确保国家在全球半导体产业中的地位不受限制。